자료유형 | 외국서단행본 |
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소장분관 | 중앙도서관 |
서명 / 저자 | Chemical vapor deposition : thermal and plasma deposition of electronic materials / S. Sivaram. |
개인저자 | Sivaram, S. |
발행사항 | New York : Van Nostrand Reinhold, c1995. |
형태사항 | xii, 292 p. : ill. ; 24 cm. |
서지주기 | Includes bibliographical references and index. |
주제명 | Microelectronics industry. Chemical vapor deposition. Microelectronics Materials. |
ISBN | 0442010796 |
청구기호 | 621.343 S624c |
소장자료
번호 | 등록번호 | 소장위치 | 청구기호 |
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1 | 1352379 | 아카데미 | 아621.343 S624c c.2 |